04 декабря
Российские инженеры создали прототип установки для производства современной микроэлектроники
В Институте прикладной физики Российской академии наук (ИПФ РАН) ведётся разработка первой отечественной установки литографии для производства микроэлектроники по современным технологическим процессам.
Сейчас, как говорят сами разработчики, создан демонстрационный образец, который они сами называют «прототип прототипа». На этой установке получены отдельные изображения на подложках с разрешением до предельных 7 нм.
Кстати, а вы знали, что на «Сделано у нас» статьи публикуют посетители, такие же как и вы? И никакой премодерации, согласований и разрешений! Любой может добавить новость. А лучшие попадут в наш Телеграм @sdelanounas_ru. Подробнее о том как работает наш сайт здесь👈
Источник: habr.com
Комментарии 0