MAX
Подпишись
стань автором. присоединяйся к сообществу!
04 декабря 123
40
termometrix Наука

Российские инженеры создали прототип установки для производства современной микроэлектроники

© habrastorage.org

В Институте прикладной физики Российской академии наук (ИПФ РАН) ведётся разработка первой отечественной установки литографии для производства микроэлектроники по современным технологическим процессам.

Сейчас, как говорят сами разработчики, создан демонстрационный образец, который они сами называют «прототип прототипа». На этой установке получены отдельные изображения на подложках с разрешением до предельных 7 нм.

[читать статью полностью...]

Кстати, а вы знали, что на «Сделано у нас» статьи публикуют посетители, такие же как и вы? И никакой премодерации, согласований и разрешений! Любой может добавить новость. А лучшие попадут в наш Телеграм @sdelanounas_ru. Подробнее о том как работает наш сайт здесь👈

Источник: habr.com

Комментарии 0

Для комментирования необходимо войти на сайт

все комментарии
  • 1
    Нет аватара termometrix04.12.23 16:14:26

    Надеюсь, они не будут сдвинута «вправо».

    Не должно быть.Это приоритетное направление.Техпроцессы, по которым, например, делают микропроцессоры (7-28 нм) для мобильных устройств и компьютеров, которые являются настолько ценными ноу-хау, что ими никто не будет делиться даже в отсутствии санкций.

    Научный руководитель Национального центра физики и математики Александр Сергеев рассказал о сроках появления в России отечественного литографа. По словам учёного, первый демонстрационный образец оборудования для производства микросхем будет готов в течение двух лет, а промышленный вариант появится в течение пяти лет. Для этого страна располагает практически всеми компетенциями, сообщает информационное агентство ТАСС.

    Отредактировано: termometrix~16:23 04.12.23
    #1273041 ↑