MAX
Подпишись
стань автором. присоединяйся к сообществу!
Есть метка на карте 05 мая 47
73

В России началось строительство фабрики для выпуска процессоров по технологии 28 нм

В России стартовало давно запланированное строительство фабрики, на которой будут выпускаться микропроцессоры по технологии 28 нм.

В Зеленограде строят новый завод, который сможет выпускать микропроцессоры по технологии 28 нм. Строительство подобной фабрики прописано в стратегии развития радиоэлектронной промышленности до 2030 г., которая была утверждена в 2020 г.

Новый микроэлектронный завод строят рядом с «Ангстремом». «В южной промзоне вовсю идет строительство — на месте снесенных двух старых корпусов „Ангстрема“ возводят производство микроэлектронной продукции общей площадью в 50 тыс. кв. м. МИЭТ (Московский институт электронной техники; — прим. CNews) планирует разместить в новых зданиях свою исследовательскую и образовательную инфраструктуру».

[читать статью полностью...]

Кстати, а вы знали, что на «Сделано у нас» статьи публикуют посетители, такие же как и вы? И никакой премодерации, согласований и разрешений! Любой может добавить новость. А лучшие попадут в наш Телеграм @sdelanounas_ru. Подробнее о том как работает наш сайт здесь👈

Источник: www.cnews.ru

Комментарии 0

Для комментирования необходимо войти на сайт

  • 1
    Нет аватара termometrix06.05.22 16:36:02

    Китайские полупроводниковые компании сосредотачиваются на процессе литографии в глубоком ультрафиолете (DUV), поскольку они не могут закупить из-за американских санкций оборудование для более сложного процесса в экстремальном ультрафиолете (EUV), который используется для производства более совершенных полупроводников.

    Литография EUV использует свет в экстремальном ультрафиолете с чрезвычайно короткой длиной волны 13,5 нанометров для нанесения рисунка на фоторезисте, в то время как литография DUV использует свет с длиной волны 254-193 нм.

    Однако производители полупроводников разработали технику двойного и четырехкратного усиления импульса для моделирования рисунка с помощью специальных линз, которая позволяет им производить продукцию в 10 нм диапазоне с помощью более старого оборудования DUV. В настоящее время TSMC и Самсунг также производят продукцию в 10нм диапазоне с использованием оборудования DUV.

    Отредактировано: termometrix~16:47 06.05.22