Предприятие «Технотех», расположенное в Йошкар-Оле, запатентовало специальный химический раствор собственной разработки. Новинка заменяет западные и китайские аналоги, необходимые в процессе производства печатных плат, стоит значительно дешевле и отличается высоким качеством.

Созданием раствора для удаления фоторезиста и концентрата для его приготовления на российском предприятии занялись после событий 2022 года. Введение западных «санкций» тогда коснулось поставок специальной химии из ЕС и США для предприятий микроэлектроники в нашей стране. При этом раствор является критически важным элементом в процессе производства печатных плат.

• По информации разработчиков, можно было откатиться технологически назад и заменить раствор устаревшим процессом на основе минеральной щелочи. При этом сразу возникали риски массового брака. Состав прошлого поколения травит олово, сильно окисляет медь и неприменим для комбинированного метода изготовления печатных плат.

Поставленная задача сделать свой аналог поставлявшегося из-за границы современного химического продукта была успешно выполнена. Автором изобретения выступил руководитель Центра научных разработок предприятия «Технотех» Андрей Алкаев. В ходе испытаний качество созданного раствора было подтверждено на практике. В начале сентября 2025 года специалисты из Йошкар-Олы сообщили о том, что их разработка запатентована.

• Главными преимуществами нового состава являются: высокая скорость удаления фоторезиста, щадящее взаимодействие с материалами подложки (оловом и медью), увеличенный срок службы и ряд других улучшенных технологических показателей.

Также интересен и тот факт, что альтернативные западным образцы из Китая проигрывают по стоимости российской разработке. Специалисты предприятия отмечают, что «стоимость изготовления раствора собственного производства в разы ниже импортных аналогов, включая китайские».